三氟化镓
三氟化镓 | |
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别名 | gallium trifluoride |
识别 | |
CAS号 | 7783-51-9 |
PubChem | 82211 |
ChemSpider | 74191 |
SMILES |
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InChI |
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InChIKey | WXXZSFJVAMRMPV-DFZHHIFOAM |
性质 | |
化学式 | GaF3 |
摩尔质量 | 126.718 g·mol⁻¹ |
外观 | 白色粉末 |
密度 | 4.47 g/cm3 |
熔点 | 800 °C |
沸点 | 1000°C |
溶解性(水) | 0.0002 g/100 mL |
结构 | |
晶体结构 | 三方晶系,hR24 |
空间群 | R-3c, No. 167 |
危险性 | |
欧盟分类 | 未列出 |
NFPA 704 | |
若非注明,所有数据均出自标准状态(25 ℃,100 kPa)下。 |
三氟化镓(GaF3)是一种无机化合物。这种白色固体的熔点超过1000°C,但是在950°C左右就会升华。它具有FeF3型结构,镓原子为6配位。[1]三氟化镓可由F2或HF与Ga2O3反应制得,而(NH4)3GaF6的热分解也可以制得它。[2]三氟化镓几乎不溶于水。[2]蒸发GaF3和HF的混合溶液可以获得三水合物GaF3·3H2O,后者受热时水解形成碱式盐GaF2(OH)。[2]三氟化镓与无机酸反应生成剧毒的氢氟酸。
轴向结构图 | 沿c轴结构图 | Ga的配位构型 | F的配位构型 |
参考资料
- ^ Greenwood, N. N.; Earnshaw, A. Chemistry of the Elements 2nd. Oxford:Butterworth-Heinemann. 1997. ISBN 0-7506-3365-4.
- ^ 2.0 2.1 2.2 Anthony John Downs, (1993), Chemistry of Aluminium, Gallium, Indium, and Thallium, Springer, ISBN 978-0-7514-0103-5
扩展阅读
- Barrière, A.S.; Couturier, G.; Gevers, G.; Guégan, H.; Seguelond, T.; Thabti, A.; Bertault, D. Preparation and characterization of gallium(III) fluoride thin films. Thin Solid Films. 1989, 173 (2): 243. doi:10.1016/0040-6090(89)90140-5.