三氟化鎵
三氟化鎵 | |
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別名 | gallium trifluoride |
識別 | |
CAS號 | 7783-51-9 |
PubChem | 82211 |
ChemSpider | 74191 |
SMILES |
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InChI |
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InChIKey | WXXZSFJVAMRMPV-DFZHHIFOAM |
性質 | |
化學式 | GaF3 |
摩爾質量 | 126.718 g·mol⁻¹ |
外觀 | 白色粉末 |
密度 | 4.47 g/cm3 |
熔點 | 800 °C |
沸點 | 1000°C |
溶解性(水) | 0.0002 g/100 mL |
結構 | |
晶體結構 | 三方晶系,hR24 |
空間群 | R-3c, No. 167 |
危險性 | |
歐盟分類 | 未列出 |
NFPA 704 | |
若非註明,所有數據均出自標準狀態(25 ℃,100 kPa)下。 |
三氟化鎵(GaF3)是一種無機化合物。這種白色固體的熔點超過1000°C,但是在950°C左右就會升華。它具有FeF3型結構,鎵原子為6配位。[1]三氟化鎵可由F2或HF與Ga2O3反應製得,而(NH4)3GaF6的熱分解也可以製得它。[2]三氟化鎵幾乎不溶於水。[2]蒸發GaF3和HF的混合溶液可以獲得三水合物GaF3·3H2O,後者受熱時水解形成鹼式鹽GaF2(OH)。[2]三氟化鎵與無機酸反應生成劇毒的氫氟酸。
軸向結構圖 | 沿c軸結構圖 | Ga的配位構型 | F的配位構型 |
參考資料
- ^ Greenwood, N. N.; Earnshaw, A. Chemistry of the Elements 2nd. Oxford:Butterworth-Heinemann. 1997. ISBN 0-7506-3365-4.
- ^ 2.0 2.1 2.2 Anthony John Downs, (1993), Chemistry of Aluminium, Gallium, Indium, and Thallium, Springer, ISBN 978-0-7514-0103-5
擴展閱讀
- Barrière, A.S.; Couturier, G.; Gevers, G.; Guégan, H.; Seguelond, T.; Thabti, A.; Bertault, D. Preparation and characterization of gallium(III) fluoride thin films. Thin Solid Films. 1989, 173 (2): 243. doi:10.1016/0040-6090(89)90140-5.