蝕刻

此條目介紹的是在玻璃表面上創作的技術。關於半導體製程，請見「蝕刻 (半導體)」。

班克菲爾德博物館的186個蝕刻玻璃

蝕刻是指以酸性、腐蝕性或有研磨效用的物質在玻璃表面上創作的技術。傳統上，這段過程是在玻璃吹製好或鑄好之後進行的。

1920年代，人們發明一種新的模刻技術，即將圖案直接刻在鑄模上。所以當鑄模好了之後，圖案就已經在玻璃的表面上了。這項技術降低了製作成本，且結合彩色玻璃的廣泛運用導致了1930年代便宜花瓶的出現，這些花瓶後來被稱之為「Depression glass」。因為用在此過程中的酸劑很危險，現在大多是使用研磨的方法。

半導體蝕刻

主條目：蝕刻 (半導體)

到了近代，現在的蝕刻應用在半導體的製程上，透過黃光製程來定義出想要的圖形，利用蝕刻來得到。

半導體的蝕刻可分為乾式蝕刻與溼式蝕刻：

• 乾式蝕刻：透過電漿的解離，形成離子與物質表面進行化學反應或是物理轟擊，屬於非等向性的蝕刻。
• 濕式蝕刻：利用化學的液體與物質進行化學反應。屬於等向性的蝕刻。常用的蝕刻方式有：
  • 浸入式：將板浸入蝕刻液中，用排筆輕輕刷掃。
  • 泡沫式：用壓縮空氣將蝕刻液吹成泡沫，對板進行腐蝕。
  • 潑濺式：用離心力將蝕刻液潑濺到覆銅板上。
  • 噴淋式：用蝕刻機的塑料泵將蝕刻液氯化鐵壓送到噴頭，呈霧狀微粒高速噴淋到由傳送帶運送的覆銅板上，進行連續蝕刻。

參見

• 雕版