光罩护膜

光罩护膜（Pellicle），即表示是光罩上的膜或薄膜的意思，结构为一薄膜展开在框架上，以免于光罩受到微尘或挥发性气体的污染。自1970年代后期即开始发展，早期的保护膜大都使用硝化纤维素，其波长在350～450nm，折射率约为1.5，厚度则2.85 mm。因为硝化纤维素在小于350nm的波长有明显的吸收能力，所以KrF (248nm)、ArF (193nm) 的保护膜则使用非结晶之氟聚合物材质（如铁氟龙、Cytop），但是上述的两个材料的折射率皆很低，248nm的折射率约为1.34，193nm 则约1.40，因此很难找到效果良好的抗反射涂层，因此单层薄膜在这些波长下是最常见的。

“抗反射涂层”（成分为氟化钙或氟碳化合物），通常会涂在保护膜的一侧或两侧，以提高透光率之用。

在目前逐步踏入EUV的世代，因为其波长仅有13.5nm，以往所使用的“光罩护膜”将会吸收此光源的波长，然而据报导指出ASML是唯一成功开发出商用的“EUV保护膜”的制造商，也在2019年与日本三井化学公司签署EUV光罩护膜组装技术的授权。

功能

使用光罩护膜有两种目的，一是增加芯片生产良率；二是减少光罩于使用时的清洁和检验。

主要材质为

• 硝化纤维素
• 纤维酯
• 醋酸纤维素丁酸盐
• 铁氟龙
• Cytop

各光罩护膜材质的适用范围

材质	膜厚	光穿透率	适用光波长
硝化纤维素	2.85	97% (avg)	350-450
	2.85	99.5%(min)	380-420
	1.40	99% (min)	365，436
纤维酯	1.40	99% (min)	365，436
铁氟龙	0.81	99% (min)	248，365，436
	0.54	99% (min)	193，248，365

参考资料

• Lee K, Jockusch S, Turro NJ, French RH, Wheland RC, Lemon MF, Braun AM, Widerschpan T, Dixon DA, Li J, Ivan M, Zimmerman P. "157 nm pellicles (thin films) for photolithography: mechanistic investigation of the VUV and UV-C photolysis of fluorocarbons". J Am Chem Soc. 2005 Jun 15;127(23):8320-7.

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