感應耦合電漿
| 「感應耦合電漿」的各地常用名稱 | |
|---|---|
| 中國大陸 | 電感耦合等離子體 |
| 臺灣 | 感應耦合電漿[a] 交感耦合電漿[7] |
感應耦合電漿（英語：Inductively Coupled Plasma，縮寫：ICP）是一種通過隨時間變化的磁場電磁感應產生電流作為能量來源的等離子體源。[8]
分類
應用
ICP源的用途著有要四種：
- 用於等離子體光譜診斷：通過分析ICP源的光譜來分析等離子體原子組分，參見感應耦合電漿原子發射光譜（ICP-AES）；
- 電感耦合等離子質譜分析技術：作為質譜分析的離子源，分析組分（ICP-MS）；
- 用於反應離子刻蝕：通過ICP源產生低溫等離子體，刻蝕材料表面，改變材料的物理與化學性質(ICP-RIE)；
- 氣相沉積薄膜技術（rf-ICP）。
參考文獻
- 腳注
- 引用
- ^ inductively coupled plasma mass spectrometer （ICP-MS） （頁面存檔備份，存於互聯網檔案館），國家教育研究院
- ^ 陳炳宏. 業者投機取巧？消基會：檢驗應用網魚法. 台北: 自由時報. 2014-09-12. （原始內容存檔於2014-09-13） （中文）.，互聯網檔案館
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- ^ Inductively Coupled Plasma Spectroscopy （頁面存檔備份，存於互聯網檔案館），國家教育研究院，環境科學名詞
- ^ inductively coupled plasma atomic emission spectrometry, ICP-AES[永久失效連結]，國家教育研究院，化學名詞
- ^ inductively coupled plasma（ICP） 互聯網檔案館的存檔，存檔日期2015-11-17.，國家教育研究院，物理學名詞
- ^ A. Montaser and D. W. Golightly, eds. Inductively Coupled Plasmas in Analytical Atomic Spectrometry. VCH Publishers, Inc., New York,. 1992.
- ^ Pascal Chambert and Nicholas Braithwaite. Physics of Radio-Frequency Plasmas. Cambridge University Press, Cambridge: 219–259. 2011. ISBN 978-0521-76300-4.
- ^ Shun'ko, Evgeny V.; Stevenson, David E.; Belkin, Veniamin S. Inductively Coupling Plasma Reactor With Plasma Electron Energy Controllable in the Range From ~6 to ~100 eV. IEEE Transactions on Plasma Science. 2014, 42 (3): 774–785. ISSN 0093-3813. doi:10.1109/TPS.2014.2299954.
