外延 (晶体)
(重定向自磊晶)
「外延 (晶体)」的各地常用名稱 | |
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中国大陸 | 外延 |
臺灣 | 磊晶[1] |
磊晶(英語:Epitaxy),是指一種用於半導體器件製造過程中,在原有晶片上長出新結晶以製成新半導體層的技術。此技術又稱外延成長(Epitaxial Growth),或指以外延技術成長出的結晶,有時可能也概指以外延技術製作的晶粒。
外延技術可用以製造矽電晶體到CMOS積體電路等各種元件,尤其在製作化合物半導體例如砷化鎵磊晶晶圓時,外延尤其重要。
外延成長技術的種類
- 化學氣相沉積
- 分子束外延技術:在高度真空下在表面沉積新的半導體結晶層的磊晶技術,相關可見真空蒸鍍技術。
- 液相外延或稱液態外延(英語:Liquid Phase Epitaxy, LPE)的磊晶技術
- 固相外延(英語:Solid Phase Epitaxy, SPE)的磊晶技術
參考來源
- 文獻
- Jaeger, Richard C. Film Deposition. Introduction to Microelectronic Fabrication 2nd. Upper Saddle River: Prentice Hall. 2002. ISBN 0-201-44494-1.
- 引用
外部連結
维基共享资源中相關的多媒體資源:
- epitaxy.net(页面存档备份,存于互联网档案馆): a central forum for the epitaxy-communities
- Deposition processes(页面存档备份,存于互联网档案馆)