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原始檔案 (1,917 × 958 像素,檔案大小:302 KB,MIME 類型:image/png


摘要

描述
English: Single electron transistor with niobium leads and aluminium island.
Left: scanning electron micrograph
Right: artistic interpretation.
Deutsch: Realisierung eines Einzelelektronentransistors mit Nb-AlOx-Al-Tunnelübergängen.
Links: Rasterelektronenmikroskopbild einer Anordnung zur Untersuchung der Coulomb-Blockade beim Stromtransport über eine längliche Metallinsel
Rechts: Künstlerische Interpretation
日期 Göteborg 1999
來源 Created by Torsten Henning and published in Charging effects in niobium nanostructures, PhD thesis, Mikroelektronik och Nanovetenskap, Chalmers Tekniska Högskola AB och Göteborgs Universitet, Göteborg 1999. Full text available online [1] as www.arxiv.org e-print cond-mat/9901308.
作者 Torsten Henning
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作者姓名字串 繁體中文 (已轉換拼寫):​Torsten Henning
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目前2005年10月12日 (三) 12:50於 2005年10月12日 (三) 12:50 版本的縮圖1,917 × 958(302 KB)DrTorstenHenning{{English}} Single electron transistor with niobium leads and aluminium island. Left: scanning electron micrograph, right: artistic interpretation. Created by Torsten Henning and published in ''Charging effects in niobium nanostructures'', PhD thesis, Mi

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